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T/GVS 002-2021 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

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  • 大小：316.94 KB
  • 语言：中文版
  • 格式： PDF文档
  • 类别：综合团体标准
  • 更新日期：2023-02-18
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资源简介
本文件规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。
本文件适用于极限压力在10-5 Pa～10-3 Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备（以下简称“设备”）。
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