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T/CASAS 010-2019 氮化镓材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法

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  • 大小：1.43 MB
  • 语言：中文版
  • 格式： PDF文档
  • 类别：综合团体标准
  • 更新日期：2022-09-19
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资源简介
本标准规定了用二次离子质谱仪测定半导体氮化镓材料中痕量杂质（硅、铝、锌、铁）浓度及分布的方法。
本标准适用于半导体氮化镓材料中痕量杂质（硅、铝、锌、铁）浓度及分布的分析，其中硅、铝、锌、铁的浓度均大于1×1015 atoms/cm3。其它杂质的检测可参照执行。
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