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T/CASAS 009-2019 半绝缘碳化硅材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法

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  • 大小：1.48 MB
  • 语言：中文版
  • 格式： PDF文档
  • 类别：综合团体标准
  • 更新日期：2022-09-19
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资源简介
本标准规定了用二次离子质谱仪测定半绝缘碳化硅材料中痕量杂质（铝、钒）浓度及分布的方法。
本标准适用于半绝缘碳化硅材料中痕量杂质（铝、钒）浓度及分布的分析，其中铝、钒的浓度均大于1×1015 atoms/cm3。其它杂质的检测可参照本标准。
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