脉冲电流对Ni-W-SiC纳米镀层组织和耐磨性能的影响

本文采用脉冲电沉积技术,在304不锈钢表面制得Ni-W-SiC纳米镀层,并研究脉冲电流密度对Ni-W-SiC纳米镀层的组织和耐磨性能的影响。利用扫描透射电镜(SEM)、能谱仪(EDS)和原子力显微镜(AFM)观察了Ni-W-SiC纳米镀层的表面形貌、表面粗糙度及其元素组成;采用X射线衍射仪(XRD)分析了镀层的晶相结构,并运用显微硬度计和摩擦磨损试验机对镀层的显微硬度和摩擦性能进行研究。结果表明,当电流密度分别为3、5和7 A/dm2时,Ni-W-SiC纳米镀层的Ni-W晶粒分别为109.7、78.1和89.9 nm,说明脉冲电流密度大小对镀层的晶粒尺寸产生很大影响。当脉冲电流密度为5 A/dm2时,Ni-W-SiC纳米镀层的孔隙率、粗糙度、晶粒尺寸、磨损量、摩擦系数最小,且镀层的表面平整度最好。此时,Ni-W-SiC纳米镀层的显微硬度为556.4 HV,磨损失重为2.8 mg。此外,当电流密度为5 A/dm2时,该纳米镀层的磨痕又窄又浅,耐磨损性能更好。

资料为PDF文档格式.

本文档关键词:镀层,脉冲,纳米,电流,耐磨性