基体偏压对高功率脉冲磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响 收藏 大小:731.37 KB 语言:中文版 格式:PDF文档 类别:金属综合 关键词:脉冲 制备 薄膜 功率 偏压 资源简介 基体偏压对高功率脉冲磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响 资料为PDF文档格式. 本文档关键词:脉冲,制备,薄膜,功率,偏压 下载地址 点击进入下载地址列表 上一篇:基体偏压对电弧离子镀AlCrSiON涂层结构和热稳定性的影响 下一篇:基体温度对反应共溅射TiN_Ni纳米复合膜结构和耐蚀性的影响