四阶衍射竞争非局域介质中调制不稳定性研究

研究了具有四阶衍射的竞争非局域介质中的调制不稳定性。通过线性稳定性分析,推导了调制不稳定性增长率的表达式,并探讨了四阶衍射系数、非局域效应(包括分子取向效应和热效应的非局域程度)、非线性系数以及振幅等因素对调制不稳定性特性的影响。研究发现,指数型和矩形型的竞争非局域材料中,自聚焦情况下四次衍射系数的增加会抑制调制不稳定性;自散焦情况下,四次衍射系数的增加会促进调制不稳定性。此外,给出了平面波增益曲线的峰值和带宽随四次衍射系数、分子取向效应非局域程度、热效应非局域程度和平面波振幅等参数的变化规律。本文的结果为理解四阶衍射与非局域非线性效应之间的相互作用提供了理论依据,并对在该模型中研究光束传输特性提供理论指导。

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本文档关键词:调制,衍射,介质,竞争,不稳定性