准直器制备关键工艺技术研究

目前制造的准直器多为单孔结构且孔径较大,且少量多孔准直器结构均匀性差、尺寸精度低,导致准直效果差。研究使用电子束曝光技术在镀有铬金属层和PMMA胶层的石英玻璃表面进行曝光,探究了抗蚀剂厚度、曝光剂量、显影时间对曝光效果的影响。经过大量实验并合理化参数后,曝光出线宽为5μm、周期为120μm的光栅图形。使用湿法刻蚀技术将胶层图形结构转移到石英玻璃上,探究刻蚀温度、刻蚀液配比对刻蚀效果的影响。发现在刻蚀温度30℃、刻蚀液为氢氟酸、盐酸和氟化铵的混合液条件下,最终在石英玻璃表面刻蚀出线宽13.265μm、深度4.049μm的槽结构。采用激光对刻蚀出槽结构的玻璃进行等大小切割并将切割好的玻璃进行结合,可获得具有一定深宽比、结构均匀的准直器结构。

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本文档关键词:制备,工艺技术,研究,准直器