本文件规定了宇航用集成电路内引线采用气相沉积保护膜工艺后的气相沉积保护膜检验方法、电力学环境试验方法。
本文件适用于完成气相沉积保护膜的宇航用集成电路的试验。
标准号：GB/T 43227-2023
标准名称：宇航用集成电路内引线气相沉积保护膜试验方法
英文名称：Test methods for space vapour deposition protective film on semiconductor wire
发布日期：2023-09-07
实施日期：2024-01-01
起草人：赵元富、姚全斌、林鹏荣、冯小成、荆林晓、李洪剑、付明洋、林建京、曹燕红、刘思嘉、刘征宇
起草单位：北京微电子技术研究所、中国航天电子技术研究院
归口单位：全国宇航技术及其应用标准化技术委员会(SAC/TC 425)
